化学汽相沉积相关论文
介绍了用激光化学汽相沉积(LCVD)球面微透镜的技术"首先对激光化学汽相沉积法获得球面微透镜进行了理论分析,并用计算机分析了在......
在光通信飞速发展的今天，全光网络的实现已经不仅仅是梦想。对各种光波导器件的需求量也日益增大。商业化的环境必定会要求光波导器......
Catalytic CVD(简称Cat-CVD)是一种不同于传统化学汽相沉积(CVD)技术的薄膜制备方法,由于具有简便低廉的特点,逐步受到人们重视.此......
近年来,ZnO和ZnS等宽禁带一维半导体纳米线的研究成为国际上的研究热点之一。ZnO和ZnS一维半导体纳米线具有宽直接带隙、高激子束......
报道了在 Ｓｉ Ｏ２ 和 Ｓｉ３ Ｎ４ 膜上用 Ｒ Ｔ Ｃ Ｖ Ｄ 法直接沉积多晶硅薄膜的实验结果，在这两种薄膜上制备出了具有柱状晶粒的多晶硅薄膜，发现两者在薄膜的......
采用无毒、不易燃的六甲基二硅胺烷和氢气在硅(001)单晶上用施加负偏压处理和化学汽相沉积(CVD)方法预沉积定向的βSiC.傅里叶红外......
合成了一系列三正丁基膦辅助配体稳定的铜(Ⅰ)β-二酮配合物,对合成的配合物用元素分析、红外、核磁共振以及热重和差热等手段进行......
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳......
介绍了一种新型的大气开放式金属有机物化学气相沉积(MOCVD)系统的结构及其新特点;以ZnO纳米棒阵列材料的制备为例,说明了大气开放......
介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展，并对各种方法的优缺点作了简要评述。......
介绍了美国1006A型切割机切割玻璃钝化管芯中的改进及用制冷系统处理管芯的应用.通过技术论证和实验证明,设备改进后,产品的质量和......
在改进的电子回旋共振（ECR）等离子体增强金属有机物化学汽相沉积（ECR-PEMOCVD）装置（ESPD-U）中，以氮等离子体为氮源，三乙基镓（TEG）为镓源，在蓝......
研究了影响单晶硅衬底的多晶硅薄膜太阳电池转换效率的因素,得到该种电池的快速热化学汽相沉积(RTCVD)的最佳条件.同时改进了制备......
拉曼系列和扫描电子显微镜(SEM ) 技术被用来决定微晶质的硅的结构的性质(c-Si : H ) 与高频率在不同底层上扔的电影提高血浆的化......
随着传统存储器集成度的不断提高，每个存储单元的电子数目不断减少，并逐渐接近其极限。为了解决传统存储器件发展遇到的困难，利用碳纳......
用注氧隔离法在单晶硅衬底中形成SiO2隔离层,制备成SOI(Silicon On Insulator)衬底,用快速化学汽相沉积(RTCVD)法在此衬底上制备硅......
首次报道了在Si衬底采用化学汽相沉积(CVD)技术生长出直径达φ50mm的大面积优质3C-SiC薄膜,表面光亮如镜.作者利用X-射线衍射、傅......
全球半导体行业沉积设备供应商AIXTRON凭借其全自动新产品——金属氧化物化学汽相沉积（MOCVD）系统AIX G5＋C,获商业杂志Compound Semic......
利用一种定制设计的诱导耦合等离子体辅助射频（RF）磁控溅射沉积技术，在玻璃衬底上制备了N掺杂的P型氧化锌（ZnO：N）薄膜体系，并使用了反应Ar......
本文在低温下利用ECR-CVD技术沉积SiO2薄膜,讨论了沉积速率和薄膜折射率随工艺条件变化的关系.直径6英寸片内均匀性达到96%,重复性......
本文简述化学汽相沉积氧化铝作为热子绝缘层的工艺和一些性能。由于它纯度高,具有半透明、粗糙、坚硬、耐磨、抗震并和钨丝结合牢......
介绍了SiC薄膜的一种主要制备方法——化学汽相沉积（CVD）法制备SiC薄膜的近年研究进展，并对所制备薄膜的结构特征与物理性质进行了简......
利用脉冲真空电弧镀的方法,在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜的光学性能、光学常数和离子能量关系。结果表明:不同的离子能量......
<正> 光导纤维比铜电缆有低损耗、宽频带、轻量、细径、无感应等优良特性。特别是在低损耗、宽频带为主的传输特性方面的优越性,远......
本文报道了用高分辨电子显微术(HREM)观察辉光放电汽相淀积制备的Si:H薄膜,和热化学气相合成法制备的超细SiC粉末时发现的原子密排......
